半导体制造行业中使用的气体很多都是对人体有害、有毒的。其中又以AsH3, B 2H6,PH3等气体的毒性最大，它们的阈限值TLV（Threshold Limited Valve）分别只有50×10-9,100×10 -9,300×10-9。这些气体在工作环境中的允许浓度极微，因此在贮存、输送以及使用的过程中都要求特别的小心。一般都应该采取特定的技术措施来控制使用这些气体。NO, C4F6,C5F8 ,NF3,CH 3F等都属于毒性气体。
半导体制造行业中使用的气体很多都是对人体有害、有毒的。其中又以AsH3, B 2H6,PH3等气体的毒性最大，它们的阈限值TLV（Threshold Limited Valve）分别只有50×10-9,100×10 -9,300×10-9。这些气体在工作环境中的允许浓度极微，因此在贮存、输送以及使用的过程中都要求特别的小心。一般都应该采取特定的技术措施来控制使用这些气体。NO, C4F6,C5F8 ,NF3,CH 3F等都属于毒性气体。