四氟化碳应用

四氟化碳是目前微电子工业中周量最大的等离子体蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅等薄膜村料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术等方面也有大量应用。而四氟化碳又是一种很重要的温室气体，在生产和使用过程中，通过扩散并释放到大气中，破坏臭氧层。四氟化碳气体标准物质是在温室气体监测中进行化学量值传递的重要组成部分，对我国环境